据报道，中国科技巨头华为已申请专利，称其正在开发用于半导体制造过程的极紫外（EUV）扫描仪。这一消息是在华为与美国政府之间日益紧张的情况下发布的，美国政府近年来对该公司实施了一系列制裁。据UDN称，华为已申请了一项专利，涵盖整个EUV扫描仪，包括13.5纳米EUV光源，反射镜，印刷电路光刻和适当的系统控制。虽然申请专利与制造精确的EUV扫描仪不同，但它可以使中国生产一类7纳米以下的芯片，并拥有本土半导体生产，尽管美国的制裁不断增加。
EUV扫描仪的发展是华为和半导体行业的一个重要里程碑。然而，该公司在这一领域的进展可能会受到美国政府制裁的阻碍，这些制裁限制了华为进入某些技术和市场的机会。值得注意的是，中国中芯国际希望开发基于第三方EUV工具的EUV制造;然而，随着瓦森纳协议生效，这些计划被取消，并禁止向中国公司销售先进工具。华为的发展可能是整个中国产业的新里程碑。
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